掃描電子顯微鏡檢測(cè)
概述：
【儀器簡(jiǎn)介】
掃描電子顯微鏡的制造是依據(jù)電子與物質(zhì)的相互作用。當(dāng)一束高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí)，被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線
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【儀器簡(jiǎn)介】
掃描電子顯微鏡的制造是依據(jù)電子與物質(zhì)的相互作用。當(dāng)一束高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí)，被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子，以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射。同時(shí)，也可產(chǎn)生電子-空穴對(duì)、晶格振動(dòng) （聲子）、電子振蕩 （等離子體）。原則上講，利用電子和物質(zhì)的相互作用，可以獲取被測(cè)樣品本身的各種物理、化學(xué)性質(zhì)的信息，如形貌、組成、晶體結(jié)構(gòu)、電子結(jié)構(gòu)和內(nèi)部電場(chǎng)或磁場(chǎng)等等。
【特點(diǎn)】1. 強(qiáng)大的電子光學(xué)系統(tǒng)，簡(jiǎn)單操作 2. 高解析度 3.全自動(dòng)電子槍 4. 多圖顯示模式 5. 簡(jiǎn)單易懂的操作介面及功能表 6. 可變焦聚光鏡修改 7. 全對(duì)中樣品臺(tái) 8. 低真空SEM
【技術(shù)參數(shù)】
放大倍數(shù)：5-300，000倍
解析度：高真空：3nm(30KV)/8nm(3KV)/15nm(1KV) 低真空:4.0nm(30KV)
電子槍：全自動(dòng)，亦可手動(dòng)調(diào)整
樣品臺(tái)：大全對(duì)中型X=80mm，Y=40mm，Z=5到48mm，傾斜：-10 - +90度，旋轉(zhuǎn)：360度
燈絲：工廠預(yù)對(duì)中燈絲（鎢）
圖像模式：二次電子像，成份像，拓?fù)湎瘢幱跋?nbsp;
加速電壓：5-30KV
聚光鏡：可變焦聚光鏡 物鏡：超級(jí)錐形物鏡 物鏡光闌：3檔，X-Y可細(xì)調(diào)
電位移：±50微米 自動(dòng)功能：聚焦，亮度，襯度，消像散
最大樣品：直徑：150mm 樣品交換：抽拉式樣品臺(tái)
真空系統(tǒng)：全自動(dòng)擴(kuò)散泵DP。分子泵TMP
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