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無錫硅晶片清洗超純水設備|電鍍清洗純水設備 

^{無錫硅晶片清洗超純水設備|電鍍清洗純水設備}

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一、硅晶片清洗超純水設備

1、采用離子交換樹脂制備硅晶片清洗超純水設備的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

3、采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備硅晶片清洗超純水設備的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

二、硅晶片清洗超純水設備應用領域

1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。

2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水。

3、實驗室和中試車間用超純水。

4、汽車、家電表面拋光處理。

5、光電子產品。

6、其他高科技精微產品。